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摘要:
利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了高度C轴择优取向的纳米氧化锌(ZnO)薄膜,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了退火热处理温度对ZnO薄膜形貌、结构和内应力的影响规律.结果表明:热处理可以明显改善薄膜的结晶质量,薄膜的晶粒变得致密,尺寸也变得均匀;(002)衍射面的晶面间距和内应力均低于未经热处理的样品;当温度高于450℃以后,薄膜的致密度反而下降,部分晶粒异常长大,随着退火温度的逐渐升高,ZnO薄膜(002)衍射面的晶面间距和内应力先减小,到450℃达到最小值,后又逐渐增大,可见450℃热处理后,薄膜的表面形貌、结构和内应力均得到很大的改善.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 退火温度对溅射氧化锌薄膜的影响
来源期刊 科技导报 学科 工学
关键词 ZnO薄膜 扫描电子显微镜 X射线衍射 退火热处理
年,卷(期) 2009,(15) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 80-82
页数 3页 分类号 TB383
字数 2630字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-7857.2009.15.017
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李争鸣 10 49 2.0 7.0
2 张韬 23 62 3.0 6.0
3 徐芸芸 17 33 3.0 4.0
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2013(1)
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO薄膜
扫描电子显微镜
X射线衍射
退火热处理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技导报
半月刊
1000-7857
11-1421/N
大16开
北京市海淀区学院南路86号
2-872
1980
chi
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