化学气相沉积法制备超纳米金刚石薄膜

• 作者: 孟祥钦 王兵 王玉乾 甘孔银
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 微波等离子体 化学气相沉积 超纳米金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2009,（14）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 54-56
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1974字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.14.016

摘要

采用微波等离子体化学气相沉积法,利用CH4、SiO2和Ar的混合气体在单晶硅片基底上制备出高质量的超纳米金刚石薄膜.表征结果显示,制备的薄膜致密而均匀,晶粒平均尺寸约7.47nm,表面粗糙度约15.72nm,并且其金刚石相的物相纯度相对较高,是质量优异的超纳米金刚石薄膜材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟祥钦	西南科技大学材料学院	4	18	3.0	4.0
2	王兵	西南科技大学材料学院	41	255	9.0	14.0
3	王玉乾	西南科技大学材料学院	8	47	4.0	6.0
4	甘孔银	中国工程物理研究院应用电子学研究所	14	59	5.0	6.0