铋基焦绿石薄膜的湿法刻蚀方法研究

• 作者: 李汝冠 李言荣 蒋书文 高莉彬
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铋基焦绿石薄膜 湿法刻蚀 图形化 微波可调介质薄膜材料 刻蚀液
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 499-502
• 分类号: TQ135.32
• 字数: 2109字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2010.08.008

摘要

介绍了一种能对铋基焦绿石薄膜进行湿法刻蚀的有效方法,研究了HF,NH4F和HNO3的水溶液对铌酸锌铋(Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7,BZN)和铌酸镁铋(Bi1.5MgNb1.5O7,BMN)两种铋基焦绿石薄膜的刻蚀情况.结果表明,刻蚀配比V(HF):m(NH4F):V(HNO3):V(H2O)为10 mL:3 g:10 mL:10 mL时,BZN和BMN薄膜能得到有效刻蚀,刻蚀速率分别为7 nm/s和4 nm/s,图形刻蚀精度高.最后讨论了该刻蚀液对铋基焦绿石薄膜的刻蚀机理,加入NH4F作为络合剂能避免刻蚀过程中三氟化铋BiF3难溶沉淀物的生成,加入HNO3作为助溶剂可以调节刻蚀速率,从而提高湿法刻蚀的图形精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李言荣	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	115	824	15.0	21.0
2	蒋书文	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	30	197	7.0	12.0
3	李汝冠	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	17	2.0	3.0
4	高莉彬	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	5	1.0	2.0