厚膜工艺制备后栅极场发射显示板的研究

• 作者: 仲雪飞 尹涵春 张雄 王保平 雷威
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 后栅极 场发射显示 厚膜工艺 测试
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 409-413
• 分类号: TN873+.95
• 字数: 3025字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.04.15

摘要

讨论了包括丝网印刷、厚膜光刻、荧光粉沉积成膜、喷涂等厚膜工艺以及后栅极结构场致发射显示屏的制备工艺.研究了老炼工艺对阴极发射特性的改善.采用全厚膜工艺制备了2英寸后栅极场发射显示板样屏,在阳极距为1mm的后栅极结构中,阳极工作电压为2 kV时,通过对样屏的测试分析,阴极开关范围差小于100 V,达到了行列低压寻址驱动的要求,验证了全厚膜制备后栅极场发射显示板的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	仲雪飞	江苏省信息显示工程技术研究中心东南大学电子科学与工程学院	3	12	2.0	3.0
2	张雄	江苏省信息显示工程技术研究中心东南大学电子科学与工程学院	3	12	2.0	3.0
3	尹涵春	江苏省信息显示工程技术研究中心东南大学电子科学与工程学院	3	12	2.0	3.0
4	王保平	江苏省信息显示工程技术研究中心东南大学电子科学与工程学院	3	12	2.0	3.0
5	雷威	江苏省信息显示工程技术研究中心东南大学电子科学与工程学院	2	7	2.0	2.0