溅射镀膜用铌靶材晶粒尺寸控制工艺研究

• 作者: 同磊 张春恒 李兆博 李桂鹏
• 来源期刊: 材料开发与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射镀膜铌靶材 晶粒尺寸 等轴晶组织
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 33-35,39
• 分类号: TG372
• 字数: 2268字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1545.2010.06.009

摘要

铌靶材主要应用于表面工程材料,如船舶、化工、液晶显示器(LCD)以及耐热、耐腐蚀等镀膜行业.作为被溅射的基材,为了获得均匀一致的薄膜淀积速率,对溅射铌靶材的主要要求是均匀的组分、合适的颗粒尺寸以及具体的结晶学取向.本文主要研究在实际生产中,锻造工艺、轧制工艺以及热处理工艺对溅射镀膜用铌靶材晶粒尺寸的影响.通过多次试验,得到合理的锻造工艺、轧制工艺以及热处理工艺,从而对铸锭晶粒进行彻底的破碎和再结晶,最终得到晶粒尺寸小于100μm,且均匀一致的等轴晶组织,满足了溅射镀膜用铌靶材要求的晶粒尺寸和均匀等轴晶组织.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李桂鹏	宁夏东方钽业股份有限公司国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心	3	15	2.0	3.0
2	李兆博	宁夏东方钽业股份有限公司国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心	2	8	1.0	2.0
3	张春恒	宁夏东方钽业股份有限公司国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心	1	8	1.0	1.0
4	同磊	宁夏东方钽业股份有限公司国家钽铌特种金属材料工程技术研究中心	1	8	1.0	1.0