应力对薄膜偏振分束镜性能的影响及改进工艺

• 作者: 吴福全 吴闻迪 尹延学 彭捍东 王庆 郝殿中 齐瑞云
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 偏振分束镜 应力 光斑 消光比
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 670-672
• 分类号: O484.2
• 字数: 1790字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2010.05.025

摘要

为了研究应力对薄膜偏振分束镜性能的影响和减少应力的方法,通过在镀制分光膜之前预镀Al2O3过渡层,镀制过程中提高真空度、升高基底温度、减慢薄膜沉积速率,以及封装过程中采用光学光敏胶紫外光照射快速凝固法来减少薄膜应力.利用CCD采集了工艺改进前后薄膜偏振分束镜反射光和透射光的光斑图像,利用消光比测试系统测量了工艺改进前后薄膜偏振分束镜反射光和透射光的消光比.结果表明,改进工艺后反射光和透射光的光斑能量更加集中,散斑现象变小;反射光和透射光的消光比特性明显提高.由此可见,通过改进镀制工艺和封装工艺可以使薄膜偏振分束镜的指标达到使用要求.