DU-Ti合金表面N+Ti+多层Ti/TiN复合膜的制备与耐蚀性

• 作者: 严东旭 刘天伟 张鹏程 朱建国 王晓红 白彬 郎定木 黄河 龙重
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体浸没离子注入 非平衡磁控溅射 复合膜 DU-Ti合金 电化学腐蚀 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 48-50,53
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文

摘要

采用单一的表面改性技术难以提高贫铀钛合金(Du-Ti)的耐蚀性能.采用等离子体浸没离子注入技术依次在Du-Ti合金表面注入N和Ti,再利用非平衡脉冲磁控溅射技术制备多层Ti/,TiN,研究了膜层的形貌、结构及耐蚀性能.结果表明:膜层厚约3μm,呈柱状结构,致密,但存在一些微缺陷,膜基结合紧密;膜层出现面心立方结构的TiN和密排六方的Ti,在DU-Ti合金界面形成了少量的UO2,没有铀的氮化物;膜层耐蚀性能较基体得到较大提高;微观缺陷是TiN层局部片状脱落的主要原因,外层TiN出现片状脱落后.注入层和内层Ti/TiN多层膜仍能有效保护基体.