非平衡磁控溅射二维磁场分布模拟计算

• 作者: 刘悦 周艳文 赵卓
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 磁场分布 ANSYS 磁感应强度
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 265-269
• 分类号: TB43
• 字数: 1809字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.03.10

摘要

磁场结构在磁控溅射技术中起着重要的作用.本文利用ANSYS软件模拟计算磁场的磁感应强度及其分布,并分析、比较不同方案中的磁场分布变化规律.计算结果与实测值吻合,并且显示随着与靶面距离的增加磁感应强度减弱的特征,其中在双靶磁场并顶部磁场只有S极的结构中,磁场中磁感应强度最强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘悦	大连理工大学物理与光电工程学院	16	134	7.0	11.0
2	周艳文	辽宁科技大学材料科学与工程学院	46	32	3.0	5.0
3	赵卓	辽宁科技大学材料科学与工程学院	6	15	1.0	3.0