矩形平面直流磁控溅射装置工作区域磁场分析

• 作者: Jim Finely Yu Jiao 励庆孚 邱清泉
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 磁控溅射 永磁 磁场 刻蚀
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 1441-1445
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987x.2007.12.013

摘要

通过分析磁场对磁控溅射过程的影响,总结出了矩形平面直流磁控溅射装置工作区域磁场的设计原则,并给出了两种磁体结构.采用有限元方法对一套装置的磁场进行了计算,磁场计算结果与测量值吻合较好.基于上述分析计算,研究了磁场分布对靶材刻蚀形貌的影响,并进一步提出了具体的磁场改进措施.采用分流条垫补方法可以改进磁场分布,如果磁场水平分量呈马鞍形分布,靶材的利用率可以提高,采用磁极斜面结构对磁场分布的改进意义不大.另外,错开磁体间安装接缝和对永磁体精确充磁能够有效提高工作区域磁场分布的均匀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	励庆孚	西安交通大学电气工程学院	77	2139	26.0	45.0
2	邱清泉	西安交通大学电气工程学院	9	81	6.0	9.0