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一种去除化学机械抛光后残留有机物的新方法
一种去除化学机械抛光后残留有机物的新方法
作者:
刘效岩
刘玉岭
康海燕
武彩霞
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电化学合成
表面活性刺
有机物
过氧化物
超声清洗
摘要:
提出硅片化学机械抛光后表面残留的有机物污染,介绍金刚石膜电化学合成过氧化物的方法与原理.根据有机物易被氧化分解的特性,采用金刚石膜电化学法合成过氧化物,利用过氧化物的氧化性氧化分解硅片化学机械抛先后表面的有机物残留配合特选的表面活性剂,并加超声清洗,物理化学方法结合,从而达到去除有机物污染的目的.实验表明,利用金刚石膜电化学法合成的过氧化物配合特选的表面活性剂作为清洗试剂,加超声进行清洗,能够有效去除硅片化学机械抛光后表面的有机物残留,达到较好的清洗效果.
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内容分析
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相关文献总数
(/次)
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文献信息
篇名
一种去除化学机械抛光后残留有机物的新方法
来源期刊
电子设计工程
学科
工学
关键词
电化学合成
表面活性刺
有机物
过氧化物
超声清洗
年,卷(期)
2010,(1)
所属期刊栏目
电力电子技术
研究方向
页码范围
106-107
页数
2页
分类号
TN305.97|TM914.4
字数
1830字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1674-6236.2010.01.041
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘玉岭
河北工业大学微电子研究所
263
1540
17.0
22.0
2
刘效岩
河北工业大学微电子研究所
20
133
8.0
10.0
3
康海燕
河北工业大学微电子研究所
4
28
3.0
4.0
4
武彩霞
河北工业大学微电子研究所
4
28
3.0
4.0
传播情况
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引文网络
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(30)
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二级参考文献(4)
1996(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
1997(1)
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二级参考文献(1)
1998(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
2000(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
2001(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2003(2)
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2004(3)
参考文献(1)
二级参考文献(2)
2006(5)
参考文献(4)
二级参考文献(1)
2007(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2010(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2012(4)
引证文献(1)
二级引证文献(3)
2013(4)
引证文献(1)
二级引证文献(3)
2014(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
2015(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
2016(4)
引证文献(0)
二级引证文献(4)
2017(6)
引证文献(1)
二级引证文献(5)
2018(6)
引证文献(1)
二级引证文献(5)
2019(4)
引证文献(0)
二级引证文献(4)
研究主题发展历程
节点文献
电化学合成
表面活性刺
有机物
过氧化物
超声清洗
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子设计工程
主办单位:
西安三才科技实业有限公司
出版周期:
半月刊
ISSN:
1674-6236
CN:
61-1477/TN
开本:
大16开
出版地:
西安市高新区高新路25号瑞欣大厦10A室
邮发代号:
52-142
创刊时间:
1994
语种:
chi
出版文献量(篇)
14564
总下载数(次)
54
总被引数(次)
54366
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
高等学校博士学科点专项科研基金
英文译名:
官方网址:
http://std.nankai.edu.cn/kyjh-bsd/1.htm
项目类型:
面上课题
学科类型:
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