光刻机主从滑模同步控制系统设计

• 作者: 武志鹏 王英红 陈兴林
• 来源期刊: 电光与控制
• 学科: 工学
• 关键词: 同步控制 时变滑模面 主从控制 光刻机
• 年，卷（期）: 2011,（11）
• 所属期刊栏目: 工程应用
• 页码范围: 84-87
• 分类号: V271.4|TP273+.2
• 字数: 2867字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-637X.2011.11.020

摘要

针对光刻机掩模台与工件台的运动同步性问题,采用主从控制结构,设计了滑模同步控制系统.直线电机和音圈电机构成粗动-精动双执行器结构以保证音圈电机不会达到位移饱和.在常规PID控制系统基础上增加了掩模台精动滑模同步控制器.根据扫描周期内掩模台和工件台的运动特点设计了时变滑模面,在同步性要求很高的曝光扫描时间段内逐渐增大时变滑模面中耦合项的系数,从而增强了同步控制的作用.滑模同步控制系统在保证原有系统跟踪精度和动态性能的前提下有效地减小了扫描时间段内的同步偏差.仿真结果表明,曝光扫描阶段内同步偏差明显减小.相对于传统PID主从同步控制方法,同步偏差的移动平均差减小18.2％,移动标准差减小61.5％,可以保证光刻机的曝光效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈兴林	哈尔滨工业大学航天学院	164	1267	18.0	24.0
2	武志鹏	哈尔滨工业大学航天学院	7	58	5.0	7.0
3	王英红	哈尔滨工业大学航天学院	1	10	1.0	1.0