Ag/Si（111）超薄膜光学二次谐波强度变化与结构相变研究

• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ag/Si(111)超薄膜 表面重构 光学二次谐波法 结构相变
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 241-245
• 页数: 5页
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文

摘要

在130-830K温度范围内,系统研究了Si（111）-√3×√3-Ag和Si（111）-3×1-Ag超薄膜重构表面的光学二次谐波的温度依赖性,分析了信号强度的变化和表面结构之间的关联.结果表明,对于Si（111）-3×3-Ag结构薄膜表面而言,在130K到320 K的温度范围内,表面光学二次谐波信号强度的变化中没有出现明显的跃变,反映出在这一温度范围内没有出现结构相变,与K.Sakamoto等人的光电子衍射实验结果一致.而对于Si（111）-3×1-Ag薄膜表面,二次谐波信号在200K到500K之间出现