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基于90nm低功耗NMOS工艺射频器件的版图优化
基于90nm低功耗NMOS工艺射频器件的版图优化
作者:
刘军
孙玲玲
李文钧
郑伟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
RF-MOSFET
版图
寄生成分
电流增益截止频率
功率增益截至频率
摘要:
从器件版图结构的布局布线出发,提出了射频器件性能增强的的方法.寄生电容,寄生电阻会明显弱化大尺寸器件的射频性能,通过多个小尺寸单元管子的并联,形成大尺寸器件,从版图的布局布线出发,减小寄生电容,寄生电阻,优化器件结构,提升射频性能.在总栅宽一定时,通过变换单元器件的栅指数与器件的并联数,寻找最佳组合.通过优化,功率增益截至频率提升约300 GHz.
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文献信息
篇名
基于90nm低功耗NMOS工艺射频器件的版图优化
来源期刊
电子器件
学科
工学
关键词
RF-MOSFET
版图
寄生成分
电流增益截止频率
功率增益截至频率
年,卷(期)
2011,(6)
所属期刊栏目
固态电子器件及材料
研究方向
页码范围
645-648
页数
分类号
TN432
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1005-9490.2011.06.011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
孙玲玲
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
68
213
8.0
9.0
2
郑伟
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
6
0
0.0
0.0
3
李文钧
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
20
61
5.0
6.0
4
刘军
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
30
47
4.0
6.0
传播情况
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参考文献(2)
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参考文献(1)
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参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
RF-MOSFET
版图
寄生成分
电流增益截止频率
功率增益截至频率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
主办单位:
东南大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1005-9490
CN:
32-1416/TN
开本:
大16开
出版地:
南京市四牌楼2号
邮发代号:
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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