钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
文献导航
学科分类
>
综合
工业技术
科教文艺
医药卫生
基础科学
经济财经
社会科学
农业科学
哲学政法
社会科学II
哲学与人文科学
社会科学I
经济与管理科学
工程科技I
工程科技II
医药卫生科技
信息科技
农业科技
数据库索引
>
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
cscd
ei
jst
aj
sa
ca
cstpcd
cssci
sci
cpku
默认
篇关摘
篇名
关键词
摘要
全文
作者
作者单位
基金
分类号
搜索文章
搜索思路
钛学术文献服务平台
\
学术期刊
\
工业技术期刊
\
无线电电子学与电信技术期刊
\
电子器件期刊
\
基于90nm低功耗NMOS工艺射频器件的版图优化
基于90nm低功耗NMOS工艺射频器件的版图优化
作者:
刘军
孙玲玲
李文钧
郑伟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
RF-MOSFET
版图
寄生成分
电流增益截止频率
功率增益截至频率
摘要:
从器件版图结构的布局布线出发,提出了射频器件性能增强的的方法.寄生电容,寄生电阻会明显弱化大尺寸器件的射频性能,通过多个小尺寸单元管子的并联,形成大尺寸器件,从版图的布局布线出发,减小寄生电容,寄生电阻,优化器件结构,提升射频性能.在总栅宽一定时,通过变换单元器件的栅指数与器件的并联数,寻找最佳组合.通过优化,功率增益截至频率提升约300 GHz.
暂无资源
收藏
引用
分享
推荐文章
90nm CMOS工艺SRAM的优化及应用
优化
低功耗自我修复SRAM
冗余逻辑
电源开启/关闭状态
90nm工艺下nMOS器件最大衬底电流应力特性
最大衬底电流应力
关态
带带遂穿
陷阱电荷
GIDL
90nm MOS器件亚阈值区RTS噪声幅度
RTS
幅度
深亚微米
MOS
等离子体对90nm工艺MOS器件的损伤
等离子体损伤
天线结构
通孔
铜大马士革工艺
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
基于90nm低功耗NMOS工艺射频器件的版图优化
来源期刊
电子器件
学科
工学
关键词
RF-MOSFET
版图
寄生成分
电流增益截止频率
功率增益截至频率
年,卷(期)
2011,(6)
所属期刊栏目
固态电子器件及材料
研究方向
页码范围
645-648
页数
分类号
TN432
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1005-9490.2011.06.011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
孙玲玲
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
68
213
8.0
9.0
2
郑伟
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
6
0
0.0
0.0
3
李文钧
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
20
61
5.0
6.0
4
刘军
杭州电子科技大学射频电路与系统教育部重点实验室
30
47
4.0
6.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(6)
节点文献
引证文献
(0)
同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2004(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2005(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2008(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2009(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2011(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
RF-MOSFET
版图
寄生成分
电流增益截止频率
功率增益截至频率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
主办单位:
东南大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1005-9490
CN:
32-1416/TN
开本:
大16开
出版地:
南京市四牌楼2号
邮发代号:
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
期刊文献
相关文献
1.
90nm CMOS工艺SRAM的优化及应用
2.
90nm工艺下nMOS器件最大衬底电流应力特性
3.
90nm MOS器件亚阈值区RTS噪声幅度
4.
等离子体对90nm工艺MOS器件的损伤
5.
无线传感网络中低功耗处理器的设计和优化
6.
栅长90nm的晶格匹配InAlAs/InGaAs/InP HEMT
7.
90nm CMOS工艺下p+深阱掺杂浓度对电荷共享的影响
8.
90纳米CMOS双阱工艺下STI深度对电荷共享的影响
9.
90nm硅栅过刻蚀工艺中功率对等离子体性质的影响
10.
90nm pMOSFETs NBTI退化模型及相关机理
11.
适用频率达到20GHz的射频CMOS衬底电阻的精确提取
12.
55 nm工艺下 SoC漏电功耗优化方法研究
13.
基于自适应DVFS的SoC低功耗技术研究
14.
小面积低功耗RFID射频前端电路设计
15.
低功耗蓝牙产品的射频测试
推荐文献
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
根据相关规定,获取原文需跳转至原文服务方进行注册认证身份信息
完成下面三个步骤操作后即可获取文献,阅读后请
点击下方页面【继续获取】按钮
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
原文合作方
继续获取
获取文献流程
1.访问原文合作方请等待几秒系统会自动跳转至登录页,首次访问请先注册账号,填写基本信息后,点击【注册】
2.注册后进行实名认证,实名认证成功后点击【返回】
3.检查邮箱地址是否正确,若错误或未填写请填写正确邮箱地址,点击【确认支付】完成获取,文献将在1小时内发送至您的邮箱
*若已注册过原文合作方账号的用户,可跳过上述操作,直接登录后获取原文即可
点击
【获取原文】
按钮,跳转至合作网站。
首次获取需要在合作网站
进行注册。
注册并实名认证,认证后点击
【返回】按钮。
确认邮箱信息,点击
【确认支付】
, 订单将在一小时内发送至您的邮箱。
*
若已经注册过合作网站账号,请忽略第二、三步,直接登录即可。
期刊分类
期刊(年)
期刊(期)
期刊推荐
一般工业技术
交通运输
军事科技
冶金工业
动力工程
化学工业
原子能技术
大学学报
建筑科学
无线电电子学与电信技术
机械与仪表工业
水利工程
环境科学与安全科学
电工技术
石油与天然气工业
矿业工程
自动化技术与计算机技术
航空航天
轻工业与手工业
金属学与金属工艺
电子器件2021
电子器件2020
电子器件2019
电子器件2018
电子器件2017
电子器件2016
电子器件2015
电子器件2014
电子器件2013
电子器件2012
电子器件2011
电子器件2010
电子器件2009
电子器件2008
电子器件2007
电子器件2006
电子器件2005
电子器件2004
电子器件2003
电子器件2002
电子器件2001
电子器件2000
电子器件2011年第6期
电子器件2011年第5期
电子器件2011年第4期
电子器件2011年第3期
电子器件2011年第2期
电子器件2011年第1期
关于我们
用户协议
隐私政策
知识产权保护
期刊导航
免费查重
论文知识
钛学术官网
按字母查找期刊:
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
其他
联系合作 广告推广: shenyukuan@paperpass.com
京ICP备2021016839号
营业执照
版物经营许可证:新出发 京零 字第 朝220126号