微光刻与微/纳米加工技术

• 作者: 陈宝钦
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 微光刻技术 微纳米加工技术 分辨率增强技术 下一代光刻技术 可制造性设计
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 技术论坛
• 页码范围: 1-5
• 分类号: TN305.6|TN305.7|TN405
• 字数: 6380字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2011.01.001

摘要

介绍了微电子技术的关键工艺技术--微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题.近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术(RET),实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20～50 nm CMOS器件和100 nm HEMT器件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈宝钦	中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室	50	361	11.0	16.0