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摘要:
目前,半导体单晶材料的加工多采用多线切割机进行切割。切割工艺直接影响着切割过后晶片的参数。在这些参数中,翘曲度是鉴别晶片几何参数好坏的重要指标之一。影响翘曲度的因素很多,如切割速度、砂浆密度、晶片内部应力等,在切割工序中,通过调整多线切割的工艺条件,来控制和改善晶片的翘曲度。
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文献信息
篇名 多线切割工艺中切割速度对晶片翘曲度的影响
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 多线切割 翘曲度 切割速度
年,卷(期) 2011,(9) 所属期刊栏目 半导体材料加工与设备
研究方向 页码范围 28-30
页数 分类号 TN305.1
字数 682字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.09.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 马玉通 中国电子科技集团公司第四十六研究所 13 31 4.0 5.0
2 赵文华 中国电子科技集团公司第四十六研究所 3 15 2.0 3.0
3 杨士超 中国电子科技集团公司第四十六研究所 4 12 1.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
多线切割
翘曲度
切割速度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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