Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究

• 作者: 严谨 刘柯钊 姚文清 张川 张立武 朱永法 杨江荣 牟豪杰 鲜晓斌
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 化学
• 关键词: Zr/Nb/Si薄膜 磁控溅射法 界面 扫描电镜 X射线衍射 俄歇电子能谱 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 134-137
• 分类号: O64
• 字数: 3318字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.02.02

摘要

通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料.X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长.薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6nm.扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没有微裂纹存在.扫描俄歇电子能谱及X射线光电子能谱的研究表明,Zr/Nb/Si薄膜样品具有清晰的界面结构.在薄膜表面形成了致密的氧化层物种,而在膜层内部少量氧则以吸附态形式存在.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱永法	清华大学化学系	72	1238	21.0	33.0
2	姚文清	清华大学化学系	32	302	9.0	16.0
3	刘柯钊		13	36	2.0	5.0
4	鲜晓斌		5	17	3.0	4.0
5	杨江荣		10	26	3.0	4.0
6	张立武	清华大学化学系	3	26	2.0	3.0
7	牟豪杰	清华大学化学系	2	24	2.0	2.0
8	张川	清华大学化学系	1	2	1.0	1.0
9	严谨	清华大学化学系	2	4	2.0	2.0