纳他霉素的稳定性研究

• 作者: 姚朔影 邱德清
• 来源期刊: 中国食品添加剂
• 学科: 工学
• 关键词: 纳他霉素 防腐剂 抗菌性 稳定性
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 69-71
• 分类号: TS202.1
• 字数: 2005字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-2513.2011.01.006

摘要

纳他霉素是一种新型的食品防腐剂,因其独特的抗菌效果受到业界关注.本文研究了pH值、氧化剂、温度、紫外线对纳他霉素稳定性的影响.实验表明,纳他霉素在pH5.58.5的范围内有很好的稳定性,100℃短时间处理对其活性影响不大,但对氧化剂敏感,对紫外线极其敏感.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚朔影		1	7	1.0	1.0
2	邱德清		1	7	1.0	1.0