CMP中真空供应系统的设计

• 作者: 周国安
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械平坦化 真空系统 电磁阀 继电器 真空槽体
• 年，卷（期）: 2011,（8）
• 所属期刊栏目: CMP工艺与设备
• 页码范围: 9-11,18
• 分类号: TN305.2
• 字数: 1903字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.08.003

摘要

针对CMP在低生产量及实验室条件下对真空供应系统的特别要求：（1）持续稳定的真空供应;（2）能够及时处理倒流液体;（3）真空电机不易长时间连续工作的要求,从气动性、硬件电路和软件流程图进行全面设计：增加独立的真空槽体和排液槽体,在正常运行情况下二者串联增加真空供应容积,并且自主收集倒流废液,而排液中依然可保证真空稳定供应;增加SMC真空开关及相应的控制系统,保证真空处于最低和最高设置负压之间,同时实现真空电机间歇式工作。从根本上解决了以上问题,且控制系统简洁可靠,满足生产需要。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周国安	中国电子科技集团公司第四十五研究所	13	43	4.0	6.0