氧分压对脉冲激光沉积SrTiO3薄膜性质的影响

• 作者: 万晓婧 孔乐 王丽 苏雪琼 陈江博
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 钛酸锶薄膜 脉冲激光沉积 微观结构 光学特性
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 页码范围: 149-153
• 页数: 5页
• 分类号: O484|TN249
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201138.0907002

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)法在不同氧分压下于LaAlO3(100)基片上成功制备了SrTiO3 (STO)薄膜.通过测试,表征了薄膜的微观结构、表面形貌和光学特性.研究表明,对于利用PLD法制备STO薄膜,氧分压是重要的工艺参数.随着氧分压的降低,薄膜的结晶性变好,并发生由立方晶系到四方晶系的形变；氧分压升高,薄膜晶粒尺寸变大、数目变少,薄膜的厚度减小.薄膜在400～2500 nm的可见光和红外波段呈现较低的光学吸收.在5,10和15 Pa氧压下制备的STO薄膜的能隙宽度分别约为3.84,4.13和4.05 eV.这为STO薄膜进一步的制备与分析提供了良好的实验数据支持.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽		133	1374	20.0	33.0
2	孔乐		18	53	5.0	7.0
3	万晓婧		1	0	0.0	0.0
4	陈江博		8	108	5.0	8.0
5	苏雪琼		7	67	3.0	7.0