CVD金刚石薄膜宏观织构的形成过程

• 作者: 任凤章 朱宏喜 田保红 顾超
• 来源期刊: 科学技术与工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石薄膜 织构 电子背散射衍射 取向选择生长
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 2636-2639
• 分类号: O766.3
• 字数: 2474字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1815.2011.12.002

摘要

采用X射线衍射技术、扫描电镜和电子背散射衍射(EBSD)技术研究了CVD金刚石薄膜的织构,表面组织形貌和徼区取向分布.从取向选择生长的角度研究了薄膜织构形成的过程.研究表明,强烈的取向选择生长能够形成强织构,不同的生长速率参数α会导致不同的织构,同时形成不同的表面组织形貌.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾超	河南科技大学材料科学与工程学院	6	12	2.0	3.0