铝过渡层沉积CVD金刚石涂层的研究

• 作者: 卢文壮 左敦稳 张旭辉 徐锋 朱良杰 郑琳 黄美健
• 来源期刊: 机械制造与自动化
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射技术 铝中间层 金刚石薄膜 高钴硬质合金
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 机械制造与研究
• 页码范围: 27-29,42
• 分类号: TG154.5
• 字数: 3138字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-5276.2012.03.009

摘要

使用Murakami溶液和王水预处理高钴硬质合金刀片,并用直流磁控溅射(DCS)技术在此硬质合金上溅射铝过渡层,在热丝化学气相沉积(HFCVD)设备里沉积金刚石薄膜；分析了金刚石形核机理,并利用SEM以及Raman等方法表征试样.结果表明:与未溅射过渡层的样品相比,在过渡层上的金刚石形核密度更高,金刚石颗粒尺寸更加细小.