微晶硅薄膜的光稳定性与微结构的关系

• 作者: 卢景霄 张旭营 徐艳华 王志永 王蕾 陈永生 高海波
• 来源期刊: 太阳能学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微晶硅薄膜 光电导衰退 模拟光照 光稳定性
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 273-276
• 分类号: TK304
• 字数: 1944字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-0096.2012.02.018

摘要

利用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,通过改变功率密度和沉积压强制备了三系列微晶硅薄膜.采用拉曼光谱、XRD与电导率分析技术,研究在光照条件下微晶硅薄膜的光学特性,光电导衰退与晶化率、沉积速率、晶粒尺寸间的关系.研究发现:随着晶化率的增加,微晶硅薄膜的光电导衰退率逐渐减小；随着沉积气压的增加,相同晶化率的薄膜的光稳定性降低.在光照50h后,薄膜的光电导衰退基本达到饱和.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈永生	郑州大学材料物理教育部重点实验室	67	484	11.0	19.0
2	王蕾	郑州大学材料物理教育部重点实验室	66	364	6.0	18.0
3	卢景霄	郑州大学材料物理教育部重点实验室	100	570	12.0	17.0
4	王志永	郑州大学材料物理教育部重点实验室	9	27	4.0	5.0
5	张旭营	郑州大学材料物理教育部重点实验室	2	1	1.0	1.0
6	高海波	郑州大学材料物理教育部重点实验室	4	3	1.0	1.0
7	徐艳华	郑州大学材料物理教育部重点实验室	17	28	4.0	5.0