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摘要:
近年来,LDMOS由于其漏极、栅极和源极都在芯片表面,易于和低压器件集成,因而被广泛应用到功率集成电路和射频领域,一直以来,高压LDMOS的建模是一个十分复杂的问题.文章通过分析高压LDMOS的结构和物理特性,得到高压LDMOS的准饱和特性、自热效应和漂移区的压控电阻特性,这些特性类似JFET的特性,从而建立了高压LDMOS器件的MOS+JFET新的电路模型.通过设计一套1.0μm 40V LDMOS的模型版,在CMOS工艺线上流片提取参数,实验结果表明该模型的解析值和实测值符合良好,而且还体现了LDMOS器件的固有特性.因而该种新模型的建立可以很好地指导LDMOS器件的工程应用.
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文献信息
篇名 LDMOS模型设计及参数提取
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 LDMOS JFET 模型 漂移区
年,卷(期) 2012,(7) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 23-26
页数 分类号 TN402
字数 1718字 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
LDMOS
JFET
模型
漂移区
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
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24
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