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全耗尽SOI LDMOS阈值电压的解析模型
全耗尽SOI LDMOS阈值电压的解析模型
作者:
吴秀龙
柯导明
陈军宁
原文服务方:
微电子学与计算机
SOI LDMOS
阈值电压
准二维方法
摘要:
通过准二维的方法,求出了全耗尽S0I LDMOS晶体管沟道耗尽区电势分布的表达式,并建立了相应的阈值电压模型.将计算结果与二维半导体器件模拟软件MEDICI的模拟结果相比较,两者误差较小,证明了本模型的正确性.从模型中可以容易地分析阈值电压与沟遭浓度、长度、SOI硅膜层厚度以及橱氧化层厚度的关系,并且发现ΔVth与背栅压的大小无关.
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部分耗尽
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金属氧化物半导体场效应晶体管
阈值电压
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文献信息
篇名
全耗尽SOI LDMOS阈值电压的解析模型
来源期刊
微电子学与计算机
学科
关键词
SOI LDMOS
阈值电压
准二维方法
年,卷(期)
2007,(11)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
17-20
页数
4页
分类号
TN386.1
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-7180.2007.11.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
吴秀龙
安徽大学电子科学与技术学院
56
135
6.0
8.0
2
柯导明
安徽大学电子科学与技术学院
83
423
10.0
17.0
3
陈军宁
安徽大学电子科学与技术学院
160
1135
16.0
26.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
版权信息
全文
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节点文献
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参考文献(1)
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参考文献(1)
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2007(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
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2010(3)
引证文献(3)
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2011(2)
引证文献(2)
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二级引证文献(0)
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2017(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
SOI LDMOS
阈值电压
准二维方法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微电子学与计算机
主办单位:
中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-7180
CN:
61-1123/TN
开本:
大16开
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
1972-01-01
语种:
chi
出版文献量(篇)
9826
总下载数(次)
0
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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