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摘要:
美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料,可广泛应用并开辟潜在的重点研究领域。
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文献信息
篇名 美开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 晶体薄膜 过程开发 半导体 无缺陷 纳米 美国麻省理工学院 电子束光刻技术 研究人员
年,卷(期) 2012,(8) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 66-66
页数 1页 分类号 TB497
字数 361字 语种 中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
晶体薄膜
过程开发
半导体
无缺陷
纳米
美国麻省理工学院
电子束光刻技术
研究人员
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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