NMOS器件中单粒子瞬态电流收集机制的二维数值分析

• 作者: 刘红侠 卓青青 郝跃
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 单粒子瞬态脉冲 电荷收集机制 注入位置 漏极偏压
• 年，卷（期）: 2012,（21）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 491-497
• 分类号: TN386.1
• 语种: 中文

摘要

通过二维数值模拟, 深入分析了NMOSFET在不同漏极偏置、 不同栅长度和不同注入位置下的单粒子效应. 研究结果表明： 漏极偏置电压越高, 栅长度越短, 器件的单粒子瞬态电流越大, 收集电荷越多. 通过研究不同注入位置情况下的单粒子效应表明： 单粒子瞬态脉冲电流的大小和器件中该处对应的电场强度成比例变化. 研究结果为设计抗单粒子器件提供了重要指导.