氧化法在石英衬底上制备氧化钒薄膜及氧化过程和性能研究

• 作者: 叶勤 王权康
• 来源期刊: 科学技术与工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化钒薄膜 磁控溅射 氧化过程
• 年，卷（期）: 2012,（17）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 4069-4072
• 分类号: O484.5
• 字数: 1697字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1815.2012.17.004

摘要

采用直流溅射法在石英衬底上沉积不同厚度的金属钒(V)膜,在空气氛围中进行不同温度热氧化处理获得性能最佳的退火温度和薄膜厚度.用x射线衍射仪(XRD),傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)和X射线光电子能谱仪分别研究了薄膜的晶体结构,红外透射性和表面组分.结果表明:厚度约为100nm的金属钒膜在空气中370.C下氧化60 min制得VO2含量较高,相变温度45℃,热滞宽度约10℃,高低温光透过率变化41％的氧化钒薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶勤	暨南大学物理系	37	351	11.0	16.0
2	王权康	暨南大学物理系	3	17	2.0	3.0