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半导体CVD真空镀膜监控系统的设计
半导体CVD真空镀膜监控系统的设计
作者:
刘颖
夏诗怡
葛品森
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
化学气相沉积(CVD)
监控系统
工业控制计算机
PLC
摘要:
为了满足半导体产业发展的需求,本文介绍了一套基于工业PC和PLC的真空设备远程监控系统.内容包括CVD真空镀膜监控系统的工艺,结构以及工作原理,并对该控制系统的软件功能进行了描述.对该系统的监控效果进行了大量的测试.试验结果表明,人机交互性良好,性能稳定,可以精确的远程监控反应过程,并对各个被控量的信息进行实时存储、分析.有效地对现场设备进行管理,保证了系统的准确运行,提高了效率.
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文献信息
篇名
半导体CVD真空镀膜监控系统的设计
来源期刊
科技信息
学科
工学
关键词
化学气相沉积(CVD)
监控系统
工业控制计算机
PLC
年,卷(期)
2012,(10)
所属期刊栏目
工程技术
研究方向
页码范围
356
页数
分类号
TN304.055
字数
2966字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-9960.2012.10.318
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘颖
浙江农林大学信息工程学院
9
41
2.0
6.0
2
葛品森
浙江农林大学信息工程学院
2
5
1.0
2.0
3
夏诗怡
浙江农林大学信息工程学院
2
1
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
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2012(0)
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2020(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
化学气相沉积(CVD)
监控系统
工业控制计算机
PLC
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技信息
主办单位:
山东省技术开发服务中心
出版周期:
旬刊
ISSN:
1001-9960
CN:
37-1021/N
开本:
大16开
出版地:
山东省济南市
邮发代号:
24-72
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
124239
总下载数(次)
249
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