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摘要:
为了满足半导体产业发展的需求,本文介绍了一套基于工业PC和PLC的真空设备远程监控系统.内容包括CVD真空镀膜监控系统的工艺,结构以及工作原理,并对该控制系统的软件功能进行了描述.对该系统的监控效果进行了大量的测试.试验结果表明,人机交互性良好,性能稳定,可以精确的远程监控反应过程,并对各个被控量的信息进行实时存储、分析.有效地对现场设备进行管理,保证了系统的准确运行,提高了效率.
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文献信息
篇名 半导体CVD真空镀膜监控系统的设计
来源期刊 科技信息 学科 工学
关键词 化学气相沉积(CVD) 监控系统 工业控制计算机 PLC
年,卷(期) 2012,(10) 所属期刊栏目 工程技术
研究方向 页码范围 356
页数 分类号 TN304.055
字数 2966字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-9960.2012.10.318
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘颖 浙江农林大学信息工程学院 9 41 2.0 6.0
2 葛品森 浙江农林大学信息工程学院 2 5 1.0 2.0
3 夏诗怡 浙江农林大学信息工程学院 2 1 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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二级参考文献  (3)
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2012(0)
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  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2020(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
化学气相沉积(CVD)
监控系统
工业控制计算机
PLC
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技信息
旬刊
1001-9960
37-1021/N
大16开
山东省济南市
24-72
1984
chi
出版文献量(篇)
124239
总下载数(次)
249
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