光和传统热固化对SiO2减反膜影响的对比

• 作者: 徐建军 栗书增 苍利民 蔡志端 阎韬 靳瑞敏
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 溶胶-凝胶SiO2薄膜 光固化 传统电阻炉固化 表面结构 折射率
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 461-463
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机硅源,采用溶胶-凝胶技术,通过调节添加剂控制溶胶溶液性能,然后分别用光固化和传统电阻炉固化两种不同的热处理方案,制备出低折射率SiO2光学减反薄膜.分别采用椭偏仪、扫描电镜等对所制备薄膜的结构、物性进行研究.研究结果表明:光固化比传统电阻炉固化减反膜折射率低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	靳瑞敏	南阳理工学院太阳能电池研究所	13	55	4.0	7.0
7	阎韬		5	12	2.0	3.0
11	蔡志端		3	1	1.0	1.0
12	苍利民		4	9	1.0	3.0
13	徐建军		4	9	1.0	3.0
14	栗书增	安彩高科股份有限公司博士后工作站	3	1	1.0	1.0