半导体器件扫描电镜低电压成像技术应用

• 作者: 周庆波 梁栋程 王晓敏 王淑杰
• 来源期刊: 太赫兹科学与电子信息学报
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体器件 SEM 低加速电压 积分技术 消除电荷累积 破坏性物理分析 失效分析
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 489-493
• 页数: 5页
• 分类号: TN386.1
• 字数: 2921字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11805/TKYDA201303.0489

摘要

针对使用扫描电镜(SEM)进行半导体器件破坏性物理分析(DPA)和失效分析(FA)时，芯片表面不作喷镀处理的问题，提出了减小或消除电荷累积的试验方法。试验结果表明，正确应用SEM低电压技术，选择加速电压1.0 kV~2.0 kV、电子束斑2.0，结合积分技术，可在芯片表面不作喷镀处理，并满足国军标要求下，得到分辨率和性噪比均很好的图片。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王淑杰	中国工程物理研究院计量测试中心	10	15	3.0	3.0
2	王晓敏	中国工程物理研究院计量测试中心	20	40	3.0	5.0
3	梁栋程	中国工程物理研究院计量测试中心	11	8	2.0	2.0
4	周庆波	中国工程物理研究院计量测试中心	10	23	2.0	4.0