Al/Zr多层膜生长模型和数值计算

• 作者: 张众 杨传春 钟奇
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 物理学
• 关键词: 多层膜 生长模型 功率谱密度 表面粗糙度 散射
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 89-94
• 页数: 6页
• 分类号: O434.1
• 字数: 4721字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2013.01.018

摘要

在17～19 nm波段,利用直流磁控溅射技术将Al(l％wtSi)/ Zr多层膜镀制在掺氟的二氧化硅基底上,基于原子力显微镜对不同膜对数(N=10,40,60,80)表面粗糙度的测量结果,将多层膜的生长模型应用于实际结果中,对表面均方根粗糙度随着膜对数的变化进行了深入的分析,并对Stearns粗糙度动态生长理论的适用条件作了补充性讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张众	同济大学物理系先进微结构材料教育部重点实验室	25	122	7.0	10.0
2	杨传春	同济大学物理系先进微结构材料教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0
3	钟奇	同济大学物理系先进微结构材料教育部重点实验室	2	1	1.0	1.0