基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
为了研究黑曲霉NRRL 3135植酸酶A K148与K149对底物与酶的结合反应的影响,构建了一个单位点突变体(K148E)和一个双位点突变体(K148E和K149E),由于带电的氨基酸残基发生变化,造成这2个突变体的酶活性都有不同程度的减少,利用InsightⅡ软件模拟了2种突变体酶的3-D结构,发现酶分子突变位置的表面电势有明显的改变.这2个α-螺旋(141~160)位点的改变可能降低了活性中心附近的底物浓度,减缓了底物与活性中心的反应速度.
推荐文章
丝裂霉素诱变黑曲霉产植酸酶过程模型化
植酸酶
黑曲霉
丝裂霉素C
诱变
模型化
参数估计
黑曲霉NRRL3135 bgl基因的克隆及序列分析
β-葡萄糖苷酶基因
RT-PCR
基因克隆
序列分析
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 K148与K149对黑曲霉NRRL3135植酸酶A与植酸结合机制的影响
来源期刊 南开大学学报(自然科学版) 学科 生物学
关键词 黑曲霉niger NRRL 3135 植酸酶 表面电势
年,卷(期) 2013,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 44-49
页数 6页 分类号 Q5
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 康伟 16 39 4.0 6.0
2 马宝全 8 23 4.0 4.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (10)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1991(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
1993(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1997(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1999(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2000(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2004(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2013(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
黑曲霉niger NRRL 3135
植酸酶
表面电势
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
南开大学学报(自然科学版)
双月刊
0465-7942
12-1105/N
大16开
天津市南开区卫津路94号
6-174
1955
chi
出版文献量(篇)
2529
总下载数(次)
13
  • 期刊分类
  • 期刊(年)
  • 期刊(期)
  • 期刊推荐
论文1v1指导