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GeneSiC开发出耐压10 kV的SiC BJT
GeneSiC开发出耐压10 kV的SiC BJT
作者:
赵佶
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
双极晶体管
功率半导体
金泽
GeneSiC
SIC
BJT
kV
石川
日本电气
导通电阻
开关损
摘要:
【正】GeneSiCSemicondutor公司开发出了耐压高达10kV左右的SiC双极晶体管(BJT),并在功率半导体国际会议"ISPSD201"(2013年5月26~30日在日本石川县金泽市举行,由日本电气学会主办)上发表了演讲。该公司制作出了芯片
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试验装置
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4H-SiC npn BJT特性研究
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双极型晶体管
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GeneSiC开发出耐压10 kV的SiC BJT
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双极晶体管
功率半导体
金泽
GeneSiC
SIC
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kV
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日本电气
导通电阻
开关损
年,卷(期)
bdtxx_2013,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
9-10
页数
2页
分类号
TN322.8
字数
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主办单位:
中国半导体行业协会分立器件分会
中国电子科技集团公司第五十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
16开
出版地:
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
邮发代号:
创刊时间:
1990
语种:
chi
出版文献量(篇)
5953
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11
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