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摘要:
【正】GeneSiCSemicondutor公司开发出了耐压高达10kV左右的SiC双极晶体管(BJT),并在功率半导体国际会议"ISPSD201"(2013年5月26~30日在日本石川县金泽市举行,由日本电气学会主办)上发表了演讲。该公司制作出了芯片
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双极型晶体管
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 GeneSiC开发出耐压10 kV的SiC BJT
来源期刊 半导体信息 学科 工学
关键词 双极晶体管 功率半导体 金泽 GeneSiC SIC BJT kV 石川 日本电气 导通电阻 开关损
年,卷(期) bdtxx_2013,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 9-10
页数 2页 分类号 TN322.8
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双极晶体管
功率半导体
金泽
GeneSiC
SIC
BJT
kV
石川
日本电气
导通电阻
开关损
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
双月刊
16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
1990
chi
出版文献量(篇)
5953
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11
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