光刻版清洗工艺及设备研究

• 作者: 刘永进 刘玉倩 宋文超
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻版 清洗 工艺 设备
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 清洗技术与设备
• 页码范围: 19-21,57
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.94
• 字数: 1708字
• 语种: 中文

摘要

光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段.根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺,并介绍了相关工艺设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘永进	中国电子科技集团公司第四十五研究所	11	11	2.0	2.0
2	刘玉倩	中国电子科技集团公司第四十五研究所	21	25	4.0	4.0
3	宋文超	中国电子科技集团公司第四十五研究所	17	18	2.0	4.0