射频离子束辅助溅射镀膜设备的研制

• 作者: 刘欣 王慧勇 胡凡 陈特超 龙长林
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 离子束 溅射 薄膜 射频离子源 溅射靶
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 半导体器件制造工艺与设备
• 页码范围: 1-3,32
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.92
• 字数: 2382字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种用于氧化物薄膜制备的射频离子束辅助溅射镀膜设备,阐述了设备原理、组成、特点以及试验结果.通过使用射频离子源和射频中和器,解决了采用热灯丝离子源的同类设备中灯丝易被氧化的关键问题,适合于氧化物薄膜制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈特超	中国电子科技集团公司第四十八研究所	21	38	3.0	5.0
2	刘欣	中国电子科技集团公司第四十八研究所	14	45	4.0	6.0
3	胡凡	中国电子科技集团公司第四十八研究所	4	5	2.0	2.0
4	王慧勇	中国电子科技集团公司第四十八研究所	7	10	2.0	3.0
5	龙长林	中国电子科技集团公司第四十八研究所	3	2	1.0	1.0