CdS薄膜的可见和近红外光谱性能研究

• 作者: 丛家铭 张传军 曹鸿 王善力 褚君浩 邬云骅
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: CdS薄膜 光谱透过率 可见和近红外光谱
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 259-264
• 分类号: TN213
• 字数: 4448字
• 语种: 中文

摘要

在康宁7059玻璃衬底上采用磁控溅射、化学水浴和近空间升华法制备CdS薄膜,在FTO、ITO、AZO衬底上采用磁控溅射法制备CdS薄膜.分别对两组CdS薄膜的形貌、结构和光学性能进行了研究,结果表明:采用不同工艺和衬底条件制备的CdS薄膜具有不同的形貌和结构,并表现出不同的光学性能.对于不同的制备技术,化学水浴法制备的CdS薄膜在520~820 nm范围的光谱平均透过率最高,光学带隙最大为2.418 eV,磁控溅射法制备的CdS薄膜在820~1200 nm和520~1200 nm范围的光谱平均透过率最高.对于不同的衬底条件,在FTO衬底上磁控溅射制备的CdS薄膜在820~1200 nm和520~1200 nm范围的光谱平均透过率最高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王善力		11	37	3.0	5.0
2	褚君浩	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	103	650	13.0	22.0
3	曹鸿	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	6	14	3.0	3.0
4	张传军	中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室	5	12	3.0	3.0
5	丛家铭	西安工业大学光电工程学院	3	3	1.0	1.0
6	邬云骅		4	6	2.0	2.0