机械刻划光栅的刻线弯曲与位置误差对平面光栅性能影响及其修正方法

• 作者: 于海利 唐玉国 巴音贺希格 李晓天 齐向东
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 光栅 平面光栅 光栅刻线弯曲 光栅刻线位置误差 衍射波前 光栅指标
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 测量与计量
• 页码范围: 227-234
• 页数: 8页
• 分类号: O433.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.0308009

摘要

机械刻划法是制作平面光栅的重要方法之一.深入分析了机械刻划光栅的等间距刻线弯曲和刻线位置误差对平面光栅分辨本领和杂散光等光谱性能的影响,对改善光栅质量和提高应用水平有重要的意义.根据费马原理,建立了单色平行光入射、含有刻线弯曲和刻线位置误差的平面光栅在焦平面上成像的光线追迹数学模型,研究了上述两种刻线误差对光栅光谱性能的影响.结果表明,刻线弯曲和刻线位置误差分别主要影响光栅弧矢和子午方向光谱性能,刻线弯曲对光栅分辨本领和杂散光影响较小.据此对光栅刻划机刻划系统进行了修正.修正后的刻划系统产生的刻线位置误差的统计平均值降低至原有幅值的一半以下,从而有效抑制了光栅杂散光.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
2	唐玉国	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	79	905	17.0	26.0
3	齐向东	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	61	630	16.0	22.0
4	李晓天	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	17	20	2.0	4.0
5	于海利	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	22	92	7.0	9.0