双离子束溅射沉积Cu纳米薄膜表面的研究

• 作者: 刘应开 张恒 张莹 马蒋
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 双离子束沉积 Cu纳米薄膜 膜厚分布 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2013,（z2）
• 所属期刊栏目: 纳米材料
• 页码范围: 13-15
• 页数: 3页
• 分类号: O469
• 字数: 3039字
• 语种: 中文

摘要

以(100)硅片为衬底,通过双离子束溅射生长不同厚度的Cu纳米薄膜.利用原子力显微镜及椭偏仪对样品进行分析和研究.结果表明:离子束在斜入射45°的条件下溅射,原子通量的峰值与法线夹角约为15.1°,膜厚度按照余弦五次方分布,并给出了法线两边对称分布薄膜的表面粗糙度变化公式.研究表明双离子束溅射制备的薄膜优于其他方法生长的薄膜,膜的表面平整度、厚度均匀性更好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘应开	云南师范大学物理与电子信息学院	38	81	5.0	6.0
2	张恒	云南师范大学物理与电子信息学院	5	8	2.0	2.0
3	张莹	云南师范大学物理与电子信息学院	12	21	2.0	4.0
4	马蒋	云南师范大学物理与电子信息学院	3	3	1.0	1.0