用磁控溅射技术制备不同调幅波长(L)的 W(Mo)/Cu 纳米多层膜,所制膜系在60 keV 氦离子(He+)辐照条件下注入不同剂量:0,1×1017 He+/cm2,5×1017 He+/cm2.用 X 射线衍射仪(XRD)和高分辨透射电子显微镜(TEM)表征 W(Mo)/Cu 纳米多层膜辐照前后微观结构.研究结果表明:1) He+离子轰击引起温升效应是导致沉积态亚稳相β-W 转变成稳态α-W 相的主因,而与调幅波长无明确关联;2)纳米多层结构中 W(Mo)和 Cu 膜显现出的辐照耐受性与调幅波长相关,调幅波长越小,抗 He+的辐照性能越强;3)在5×1017 He+/cm2注入条件下,观察到 He 团簇/泡在纳米结构 W(Mo)和 Cu 膜中的积聚行为存在明显差异:在 W (Mo)膜中 He 团簇/泡的分布与晶粒取向相关, He 团簇/泡倾向于沿 W (211)晶面分布;而 Cu 膜非晶化且 He 团簇/泡在其体内呈均匀分布.