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硅片清洗原理与方法综述
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摘要：
文中首先就硅片清洗原理的硅片的表面状态与洁净度问题和吸附理论进行了探讨，在硅片清洗的常用方法与技术中分析了湿法化学清洗、干法清洗技术、束流清洗技术。
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期刊影响力
科技与企业
主办单位：
中国科普作家协会
出版周期：
半月刊
ISSN：
1004-9207
CN：
11-3096/N
开本：
小16开
出版地：
北京市
邮发代号：
2-282
创刊时间：
1992
语种：
chi
出版文献量（篇）
33127
总下载数（次）
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