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摘要:
文中首先就硅片清洗原理的硅片的表面状态与洁净度问题和吸附理论进行了探讨,在硅片清洗的常用方法与技术中分析了湿法化学清洗、干法清洗技术、束流清洗技术。
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文献信息
篇名 硅片清洗原理与方法综述
来源期刊 科技与企业 学科
关键词 硅片清洗原理 湿法化学清洗 干法清洗技术 束流清洗技术
年,卷(期) 2013,(12) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 364-364
页数 1页 分类号
字数 语种 中文
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硅片清洗原理
湿法化学清洗
干法清洗技术
束流清洗技术
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科技与企业
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1004-9207
11-3096/N
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