ITO/Rubrene表面及界面的AFM和XPS研究

• 作者: 向东旭 彭应全 李海蓉 王金顺
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: XPS Rubrene 化学位移 界面态
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 207-212
• 页数: 6页
• 分类号: TN383+.1|TN304
• 字数: 3218字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20143502.0207

摘要

采用原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱仪(XPS)研究了氧化铟锡(ITO)/红荧烯(Rubrene)的形貌和表面、界面的电子态.AFM结果显示,ITO上的Rubrene膜有良好的均匀性.XPS结果表明:C1s谱有3个峰,位于282.50,284.70,289.30 eV,对应于C—Si、C=O和C—C键.用氩离子束溅射表面,芳香碳对应的峰值逐渐增大,其他两个峰值迅速消失.随着表面O污染的去除,O1s峰先快速减弱然后逐渐增强.界面附近的O原子与C原子结合构成O=C、C—O—C和醛基.In3d和Sn3d峰则缓慢增强,在界面附近峰值变得稳定.C1s、In3d、Sn3d谱峰都向低束缚能发生化学位移,表明ITO与Rubrene在界面发生了相互作用,形成一个互扩散层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李海蓉	兰州大学物理科学与技术学院微电子研究所	18	81	5.0	8.0
5	彭应全	兰州大学物理科学与技术学院微电子研究所	30	95	6.0	8.0
9	王金顺	兰州大学物理科学与技术学院微电子研究所	1	2	1.0	1.0
10	向东旭	兰州大学物理科学与技术学院微电子研究所	1	2	1.0	1.0