砷化镓晶片表面的XPS研究

• 作者: 严如岳 任殿胜 李雨辰 王为
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 物理学
• 关键词: 砷化镓 表面 XPS
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 270-274
• 页数: 5页
• 分类号: O472.1
• 字数: 2377字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2002.04.006

摘要

用X射线光电子能谱分析技术(XPS)研究了几种砷化镓抛光片及经不同表面处理方法处理的砷化镓晶片表面的化学计量比和表面化学组成.结果表明砷化镓抛光片的表面自然氧化层中含有Ga2O3、As2O5、As2O3及元素As;表面化学计量比明显富镓,而经过适当的化学处理后这些表面特性能得到较大改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王为	天津大学化工学院	125	1597	22.0	34.0
2	任殿胜	天津大学化工学院	6	42	5.0	6.0
6	李雨辰	信息产业部电子第四十六研究所	3	16	2.0	3.0
7	严如岳	信息产业部电子第四十六研究所	3	16	2.0	3.0