Ni离子注入SiO2的表面形貌和光学吸收性能研究

• 作者: 于盛旺 宁来元 申艳艳 贺志勇 金腾 高洁
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子注入 Ni纳米颗粒 表面形貌 等离子体共振吸收
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 74-78
• 页数: 5页
• 分类号: O59
• 字数: 3580字
• 语种: 中文

摘要

室温下,将能量为60 keV,剂量范围在1×1016～1×1017/cm2的Ni离子注入到SiO2中.随后将样品在Ar气中退火(400 ～ 1000℃).采用原子力显微镜(AFM),掠入射X射线衍射(GXRD),紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对退火前后样品的表面形貌,Ni纳米颗粒的形成和热演变过程以及样品光吸收性能进行分析表征.结果表明:剂量为1×1016/cm2的样品退火前后均未能形成纳米颗粒;剂量为5×1016/cm2和1×1017/cm2的样品中形成了纳米颗粒,退火后颗粒长大,样品表面凸起(Ni纳米颗粒)高度增加,数量减少.SiO2中Ni纳米颗粒的光吸收带在310～ 520 nm,800℃后光吸收带变得明显且伴随峰位蓝移.经1000℃退火后,Ni纳米颗粒被热分解的O氧化为NiO纳米颗粒,NiO纳米颗粒的光吸收带位于300 nm附近.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺志勇	太原理工大学表面工程研究所	72	696	15.0	23.0
2	于盛旺	太原理工大学表面工程研究所	27	77	5.0	7.0
3	宁来元	太原理工大学表面工程研究所	4	8	1.0	2.0
4	金腾	太原理工大学表面工程研究所	3	3	1.0	1.0
5	申艳艳	太原理工大学表面工程研究所	9	38	3.0	6.0
6	高洁	太原理工大学表面工程研究所	21	58	5.0	7.0