磁控溅射工艺参数对涤纶机织物基纳米金属薄膜抗静电性能的影响

• 作者: 徐文正 袁小红 陈东生 魏取福
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 涤纶机织物 纳米金属薄膜 抗静电性能
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 848-852
• 分类号: TS190.6
• 语种: 中文

摘要

在室温条件下采用磁控溅射技术在涤纶机织物表面沉积金属薄膜,利用扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察纳米金属薄膜的表面形貌,通过分别改变磁控溅射工艺参数溅射时间、溅射功率和气体压强,研究其对试样抗静电性能的影响.实验结果表明,溅射时间和溅射功率对镀金属薄膜试样的抗静电性能均影响较大,而气体压强影响相对较小.溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1.6Pa工艺条件下,镀Cu膜试样的抗静电性能最好;溅射时间40min、溅射功率120W、气体压强1Pa或1.6Pa工艺条件下,镀Ag膜试样的抗静电性能最好,而且镀Ag比镀Cu薄膜试样的抗静电性能更优异.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈东生	闽江学院服装与艺术工程学院	200	1287	19.0	24.0
2	魏取福	江南大学生态纺织教育部重点实验室	184	913	16.0	21.0
3	袁小红	江南大学生态纺织教育部重点实验室	38	258	11.0	14.0
5	徐文正	江南大学生态纺织教育部重点实验室	6	51	4.0	6.0