低浓度氮气对 MPCVD 法制备金刚石膜的影响

• 作者: 吕琳 张莹 汪建华 熊礼威
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体化学气相沉积 金刚石薄膜 氮气
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 页码范围: 11-14,20
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 3192字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2014.4.0003

摘要

利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法，在 CH 4/H 2的混合反应气源中加入 N2进行了金刚石膜的沉积实验，详细研究了 N2浓度对金刚石膜生长的影响规律。使用扫描电子显微镜、激光拉曼光谱仪和 X 射线衍射仪等设备，表征了金刚石薄膜的表面形貌、相组成及晶面取向。实验结果表明：随着 N2体积分数的增加(由0%增加到6%)，薄膜中的非金刚石相含量逐渐增大，金刚石晶粒尺寸逐渐减小，晶面取向也由较大的晶面(111)转变成较小的晶面(100)；当 N2体积分数为4%时，沉积的金刚石膜表面为“菜花”状结构；低体积分数(2%)的 N2有利于获得高度取向(100)的金刚石膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
2	熊礼威	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	37	243	9.0	14.0
3	张莹	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	8	66	5.0	8.0
4	吕琳	武汉工程大学材料科学与工程学院湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	7	31	3.0	5.0