溅射气压对AlN薄膜纳米结构和纳米力学性能的影响

• 作者: 余志明 刘丹瑛 周科朝 张斗 张雄伟 李劼 魏秋平
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: 氮化铝薄膜 反应磁控溅射 择优取向 纳米力学性能
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: Functional Materials
• 页码范围: 2845-2855
• 页数: 11页
• 字数: 571字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(14)63417-8

摘要

研究在不同气压下，运用射频磁控溅射法在Si(100)上沉积氮化铝(AlN)薄膜，并使用XRD、SEM、AFM、XPS 和纳米压痕等表征手段研究薄膜的性质。XRD 结果表明，在低压下有利于沉积 c 轴取向的薄膜，而在高气压下有利于(100)面的生长。SEM和AFM结果表明，随着气压的升高，沉积速率和表面粗糙度均减小而表面粗糙度则增加。XPS结果表明，降低气压有利于减少薄膜中的氧含量，从而使制备的薄膜成分更接近其化学计量比。通过测试AlN薄膜的纳米力学性能表明，在0.30 Pa下制备的薄膜具有最大的硬度和弹性模量。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周科朝	中南大学粉末冶金国家重点实验室	294	2609	23.0	37.0
2	余志明	中南大学材料科学与工程学院	80	689	15.0	21.0
6	李劼	中南大学冶金与环境学院	259	2311	22.0	31.0
7	魏秋平	中南大学冶金与环境学院	35	149	7.0	9.0
11	张雄伟	中南大学材料科学与工程学院	4	15	2.0	3.0
12	刘丹瑛	中南大学材料科学与工程学院	4	21	3.0	4.0
13	张斗	中南大学粉末冶金国家重点实验室	23	110	6.0	10.0