共轭距可变的光刻投影物镜光学设计

• 作者: 王向朝 蔡燕民 黄惠杰
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学设计 成像系统 光刻投影物镜 远心光路 共轭距
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 279-284
• 页数: 6页
• 分类号: O439|TB851
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201441.0416003

摘要

一种用于印刷电路板(PCB)的激光直接成像(LDI)光刻设备,需要加工高密度互连(HDI)基板的厚度变化范围为0.025～3 mm,为此设计了一种共轭距可变的光刻投影物镜.采用双远心光路结构,通过压缩物方和像方远心度误差的办法,可以有效地实现共轭距变化范围达3 mm.采用正负光焦度合理匹配,可以有效地在共轭距变化范围内很好地校正波像差、畸变等像差,实现良好的成像质量.以光刻投影物镜光学设计的具体实例,证实了通过压缩物方和像方远心度误差的办法,可以有效地获得共轭距变化一定范围的光刻投影物镜,并在该变化范围内保证实际光刻设备所要求投影物镜的成像质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄惠杰	中国科学院上海光学精密机械研究所	69	544	13.0	23.0
2	王向朝	中国科学院上海光学精密机械研究所	170	1628	23.0	35.0
3	蔡燕民	中国科学院上海光学精密机械研究所	13	257	7.0	13.0