氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响

• 作者: 姜金龙 杨华 王琼 陈娣 魏智强
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti-Si-C纳米复合薄膜 氩离子溅射刻蚀 X射线光电子能谱 键合结构
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 977-981
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

通过中频非平衡磁控溅射Ti80Si20复合靶在氩气和甲烷混合气氛中沉积Ti-Si-C复合薄膜.采用X射线衍射仪、Raman光谱和X射线光电子能谱分析薄膜微结构.结果显示:制备的薄膜为非晶碳(a-C∶Si∶H)包裹约10 nm TiC晶粒的复合结构,氩离子溅射刻蚀对XPS分析结果有显著影响.随氩离子刻蚀溅射刻蚀时间增加,薄膜表面C、O原子含量明显降低,而Ti、Si原子含量增加.氩离子溅射刻蚀导致薄膜非晶碳相发生石墨化转变,即sp3C-C(H)/sp2C-C比率减小,同时,C-Ti*/C-Ti和C-(Ti+Ti*)/C-C强度比明显增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏智强		81	508	12.0	19.0
2	杨华		38	127	7.0	9.0
3	姜金龙		29	252	8.0	15.0
4	陈娣		3	8	1.0	2.0
5	王琼		5	17	2.0	4.0