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摘要:
为在圆柱基底上制备一定厚度的均匀光刻胶膜层,进行了提拉法涂胶试验,并结合试验建立了数值模型,模拟仿真了不同工况下的液膜轮廓,仿真计算得到的膜厚与试验结果有很好的一致性.仿真计算与试验结果表明,其提接速度越快,胶层厚度越大,膜层厚度均匀性随速度的增大而变差.膜层厚度与均匀性的这种变化特征使单次提拉法的应用范围有很大的局限性.针对此问题,进一步研究了多次提拉法涂胶,并在圆柱体基底上得到了较厚且较均匀的胶膜层.
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文献信息
篇名 多次提拉法涂胶工艺及其过程仿真
来源期刊 新技术新工艺 学科 工学
关键词 提拉法涂胶 多次涂胶 膜厚均匀性 数值仿真
年,卷(期) 2015,(1) 所属期刊栏目 设计与计算
研究方向 页码范围 37-39
页数 3页 分类号 TN305.2
字数 1129字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 沈连婠 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系 63 319 7.0 12.0
2 李木军 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系 32 137 6.0 9.0
3 张琼 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系 34 565 10.0 23.0
4 叶回春 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系 14 78 5.0 8.0
5 谢俊舰 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系 2 10 2.0 2.0
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节点文献
提拉法涂胶
多次涂胶
膜厚均匀性
数值仿真
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新技术新工艺
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大16开
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1979
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