离子束辅助沉积二氧化铪薄膜紫外光学特性研究

• 作者: 吴慧利 唐义 蒋玉蓉 蒋静
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化铪薄膜 光学常数 离子束辅助沉积 SEM
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 502-505
• 分类号: O43|TN2
• 语种: 中文

摘要

利用离子束辅助沉积方法制备单层二氧化铪薄膜,对薄膜样品的折射率、吸收特性进行了研究.实验结果表明,薄膜特性与制备工艺参数有着密切的关系,沉积速率、烘烤温度、离子束流、氧气流量均对单层二氧化铪薄膜紫外光学特性有着不同程度的影响.实验分析了不同工艺因素对单层二氧化铪薄膜的影响,并且找到了在一定范围内的最佳工艺参数.针对可能对紫外波段造成较大散射吸收损耗的微观表面形貌,利用SEM分析了典型工艺因素对表面形貌的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋玉蓉	北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室	23	108	6.0	9.0
2	唐义	北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室	45	243	9.0	14.0
3	蒋静	北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室	2	5	1.0	2.0
4	吴慧利	北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室	2	5	1.0	2.0